無(wú)損檢測(cè)公司告訴您什么是渦流探測(cè)法

優(yōu)點(diǎn)。

適合所有的材料。設(shè)備輕，投資相對(duì)較少。測(cè)定方法簡(jiǎn)便，結(jié)果易于解釋。除需電源的光源外，其它設(shè)備不需電源，可直觀查看顯示器。

限制。

由于表面如涂料、污垢和涂層金屬等缺陷掩蓋了缺陷，孔表面的漏洞也能造成假顯示，探傷前后必須清洗工件。

渦流探測(cè)法(ET)

渦旋探測(cè)是利用電磁感應(yīng)原理，將含有正弦電流的激勵(lì)線(xiàn)圈靠近金屬表面，使其周?chē)慕蛔兇艌?chǎng)在金屬表面產(chǎn)生電流(渦流)。再由渦旋產(chǎn)生與原磁場(chǎng)方向相同、頻率相同的磁場(chǎng)，使激勵(lì)線(xiàn)圈內(nèi)原磁場(chǎng)減小，從而引起線(xiàn)圈阻抗的變化。

設(shè)備。

渦流探傷儀和線(xiàn)路檢測(cè)。

用法

在某些次表面檢測(cè)出表面的不連續(xù)(如裂紋、氣孔、未熔合等)和夾渣。

優(yōu)點(diǎn)。

該方法簡(jiǎn)便，可自動(dòng)檢測(cè)對(duì)準(zhǔn)工件，不需藕合，探頭不接觸試件。

限制。

僅限于導(dǎo)體材料，淺穿透，由于靈敏度隨試件幾何變化而變化，有些顯示被遮蓋。要有參考標(biāo)準(zhǔn)。

光探測(cè)。

按照美國(guó)材料檢測(cè)協(xié)會(huì)的定義，放射檢測(cè)可分為：攝影探測(cè)、實(shí)時(shí)成像檢測(cè)、層析檢測(cè)和射線(xiàn)檢查等四大類(lèi)技術(shù)，其中在壓力容器射線(xiàn)檢測(cè)中應(yīng)用最為廣泛。

光譜法是用X射線(xiàn)或γ射線(xiàn)穿透試件，在試件中，由于缺陷對(duì)射線(xiàn)吸收有影響，造成強(qiáng)度差異，通過(guò)測(cè)量這種差異來(lái)試驗(yàn)檢測(cè)缺陷，然后利用膠片作為記錄信息的無(wú)損的檢測(cè)方法。